新規レーザー駆動マイクロプラズマEUV光源（No.0158）

概要

ナノスケールのイメージングに利用できる、電力効率とコスト効率に優れた新しい極端紫外線（EUV）システム。

半導体産業におけるナノスケールイメージング、研究用アト秒パルス生成、光電子分光などの用途が拡大していることから、EUV市場は今後も成長が見込まれています。EUV市場は、2025年までに年平均 9.2%で成長すると予測されています。しかし、現在知られているEUVシステムの多くは、画像処理時間が遅い、出力が低い、高価でかさばる、危険であるなどの問題を抱えています。今回ケシャヴ・ダニ准教授を中心とした研究チームは、これらの問題を解決する、高い出力効率を持つ理想的なEUV光源を開発しました。

応用

• EUVナノスケールイメージング
• アト秒パルス生成
• 光電子分光

利点

• 電力効率の高いEUV生成
• 高速なイメージング処理時間
• 安価でコンパクト