新規レーザー駆動マイクロプラズマEUV光源（No.0158）
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概要
ナノスケールのイメージングに利用できる、電力効率とコスト効率に優れた新しい極端紫外線（EUV）システム。
半導体産業におけるナノスケールイメージング、研究用アト秒パルス生成、光電子分光などの用途が拡大していることから、EUV市場は今後も成長が見込まれています。EUV市場は、2025年までに年平均 9.2%で成長すると予測されています。しかし、現在知られているEUVシステムの多くは、画像処理時間が遅い、出力が低い、高価でかさばる、危険であるなどの問題を抱えています。今回ケシャヴ・ダニ准教授を中心とした研究チームは、これらの問題を解決する、高い出力効率を持つ理想的なEUV光源を開発しました。
応用
- EUVナノスケールイメージング
- アト秒パルス生成
- 光電子分光
利点
- 電力効率の高いEUV生成
- 高速なイメージング処理時間
- 安価でコンパクト
技術のポイント
本技術はレーザー駆動のEUV光源です。低パルスエネルギーのフェムト秒レーザービームを新しい方法でガスターゲットに照射し、マイクロプラズマを生成させます。これが波長変換として機能し、EUV光を発生させることができます。この技術により、低消費電力でのEUV生成と高速な画像処理が可能となります。また、低消費電力で稼働するので、広く普及している小型で安価な低消費電力フェムト秒レーザーとの互換性があります。さらに、半導体産業への応用に焦点を当てた概念実証研究も進行中です。
メディア掲載・プレゼンテーション
問い合わせ先
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技術移転セクション
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