電界が一様なマルチウェルプレート (No. 0088)

概要

細胞培養のための電界が均一な新規マルチウェルプレート。

世界の細胞培養市場規模は、2027年までに年平均10.9%で成長し37,000百万米ドル規模に達すると見込まれています。細胞培養とは、制御された条件下（in vitro）で生きた植物、動物、ヒトの細胞を育てることと定義されます。この人工的な環境は、理想的な温度、ガス、pH、湿度、電界などで構成されており、細胞の成長と増殖には欠かせない要素です。しかし、in vitro電界刺激デバイス、特に標準的な円形培養器具では、均一な電界（EF）を作り出すことが困難です。そのため、アッセイの際に使用できる面積や細胞の収量が減少してしまう問題がありました。エイミー・シェン教授が率いる研究グループは、上記の問題を解決する均一な電界を作りだせるマルチウェルプレートを開発しました。

応用

• 細胞組織工学
• エレクトロポレーション
• タンパク質作成

利点

• 高い細胞収量（1桁向上）
• 培養面積の拡大（2倍）
• 既存の培養デバイスへの導入が容易なモジュラーデザイン